由于铜在二氧化硅和硅中的快速分散，以及在禁带隙内受体和供体能级的构成，铜需要在化学机械抛光进程后清洗。...
在所有金属污染物中，铁和铜被认为是最有问题的。它们不光能够很容易地从未优化的工艺东西和低质量的气体和化学物质转移到晶片上，而旦还会大幅度的下降硅器材的产值。用微波光电导衰减和...
12月10日，世界独立第三方检测、查验和认证组织德国莱茵TUV大中华区（以下简称“TUV莱茵”）联合韩国工业技能实验院（KTL）为上海福佑斯电器有限公司（以下简称“福佑斯电器”）的小型熔...
2021年12月14日，以“同芯与共 行以致远”为主题的2021英特尔才智零售领航创享会，在深圳湾1号鹏瑞莱佛士酒店成功举行。...
电子发烧友网报导（文/李弯弯）12月14日，智路本钱收买MagnaChip被逼停止，由于未取得美国外国投资委员会（CFIUS）同意，不少业内人士对此较为不满。 近年来，智路本钱在半导体圈很火，因...
咱们提出了一种调查铝层蚀刻截面的办法，并将其运用于停止蚀刻蚀刻的试件截面的调查。调查成果成功地阐明晰蚀刻截面几许形状的时刻改变，和抗蚀剂宽度对几许形状的影响，并对蚀刻进程...
这本文中，咱们提出了一种准确的，低损害的循环刻蚀AlGaN/GaN的新办法，用于准确的势垒洼陷运用，运用ICP-RIE氧化和湿法刻蚀。设备功率设置的优化答应取得宽规模的蚀刻速率~0.6至~11纳米/周期...
25载倾力耕耘，匠心不辍，新思科技见证了研电赛的展开与演进，与广阔学子一起探究我国芯片工作的实践与展开路途。...
在本文中，咱们具体研讨了AlGaN的湿法刻蚀特性。特别地，咱们研讨了m面刻面构成和AlN摩尔分数对蚀刻速率的依靠联系。咱们还研讨了氮化铝摩尔分数差异较大的紫外发光二极管结构的湿法刻蚀...
跟着服务器和数据中心在全世界内的运用日益广泛，对安稳高效电源的需求越来越激烈，以应对继续不断的添加的功耗。...
最近在外延膜的导电率操控和高质量块状氧化锌衬底的可用性方面的发展从头引起了咱们对用于紫外光发射器和通明电子器材的氧化锌/氧化锌/氧化锌异质结构体系的爱好。...
运用放射性示踪技能研讨了金属杂质(如钡、铯、锌和锰)从化学扩展光刻胶中搬迁和吸附到硅基底层衬底上的行为。评价了两个重要的工艺参数，即烘烤温度和衬底类型(如裸硅、多晶硅、氧化物...
关于展开社会主义先行示范区“深圳先进制作业智能配备范畴开荒牛”评选活动的告诉...
进一步扩展公司在深硅刻蚀技能范畴的身先士卒的优势，新的半导体制作计划支撑用于轿车与智能技能的芯片开发。...
